气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评
气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评 篇1
气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评
本文对气相沉积技术的发展与最新趋势给出了述评,重点强调了等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)的`优势、进展及其在工模具领域的应用.
作 者：马胜利 徐可为 介万奇 作者单位：马胜利(西北工业大学金属凝固技术国家重点实验室,西安,710072;西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049)徐可为(西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049)
介万奇(西北工业大学金属凝固技术国家重点实验室,西安,710072)
刊 名：真空科学与技术学报 ISTIC EI PKU英文刊名：VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY 年，卷(期)： 22(6) 分类号：O484 关键词：气相沉积技术 硬质薄膜 PCVD【气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评】推荐阅读：
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