气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评

气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评

气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评 篇1

气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评

本文对气相沉积技术的发展与最新趋势给出了述评,重点强调了等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)的`优势、进展及其在工模具领域的应用.

作 者：马胜利 徐可为 介万奇  作者单位：马胜利(西北工业大学金属凝固技术国家重点实验室,西安,710072;西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049)

徐可为(西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049)

介万奇(西北工业大学金属凝固技术国家重点实验室,西安,710072)

刊 名：真空科学与技术学报  ISTIC EI PKU英文刊名：VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY 年，卷(期)： 22(6) 分类号：O484 关键词：气相沉积技术   硬质薄膜   PCVD