光催化沉积法制备Pd膜的改进及Pd膜性能表征

光催化沉积法制备Pd膜的改进及Pd膜性能表征

光催化沉积法制备Pd膜的改进及Pd膜性能表征 篇1

对光催化沉积法(PCD)制备Pd膜进行了改进,使含有TiO2与Pd2+的悬浮液膜层在多孔陶瓷膜表面形成液体薄膜,该薄膜在紫外光直接照射下发生光催化还原反应,烧结后得到含TiO2及Pd晶种的`超薄膜层,用化学镀修饰得致密Pd膜.采用SEM、EDAX方法对所制的Pd膜表征结果表明,Pd膜厚度为5～6 μm.在350～500 ℃和0.05～0.15 MPa下进行气体渗透实验,当温度为450℃时,H2渗透系数为4.07×10-6 mol/(m2・s・Pa),N2的渗透量检测不出,高温热循环测试表明该Pd膜致密且具有良好的热稳性.

作 者：黄丹 蒋久乐 范益群 HUANG Dan JIANG Jiu-le FAN Yi-qun 作者单位：南京工业大学,化学化工学院,江苏,南京,210009刊 名：南京工业大学学报(自然科学版) ISTIC PKU英文刊名：JOURNAL OF NANJING UNIVERSITY OF TECHNOLOGY(NATURAL SCIENCE EDITION)年，卷(期)：29(5)分类号：O614.8 TB383关键词：Pd膜 光催化沉积 TiO2 H2分离