抛光技术(共12篇)
抛光技术 篇1
摘要:基于自主研制的叶片数控砂带抛光机,针对叶片抛光加工的关键技术问题,制作了具有柔性作用的开槽橡胶接触轮,合理布局了砂带缠绕方式,设计了张紧力调节系统,提出了抛光力柔性控制方案。经某型号叶片抛光试验,叶片质量得到较大提高,表面铣削刀痕明显消除,粗糙度可达到0.1~0.05,效率提高了4-5倍。
关键词:叶片,砂带抛光,柔性技术,抛光力
0 引言
叶片是航空发动机、汽轮机和水轮机等设备中的关键零件,其表面质量直接影响整机的工作性能[1]。然而叶片属于薄壁易变形零件,表面曲率复杂,精度要求高,目前其最终加工仍未完全摆脱人工抛光的方法[2]。
砂带抛光作为一种优质、高效、低耗的加工方法,已成为叶片抛光加工的有效方法之一,国内对此已有广泛的研究[3],并研制出了相关设备,但对于抛光过程中的柔性控制等关键技术论述较少。
本文基于叶片的加工工艺要求,研制了砂带抛光系统,从接触轮的设计、砂带的布局、张紧力的调节和抛光力的控制等方面入手,对叶片抛光加工的关键技术提出了解决方案,最后加以试验验证,实现了叶片的高精度柔性抛光。
1 砂带抛光系统设计
叶片是典型的自由曲面类零件,需多轴联动才能实现其表面的抛光加工。叶片加工的高精度和稳定性对机床的刚度提出了要求,龙门式结构因有极好的对称性和极佳的刚性,精度容易保证[4],为实现叶片的表面抛光奠定了基础。研制的叶片砂带抛光机如图1所示,主要由机床本体结构、砂带传动部分和叶片装夹机构三部分组成。
横梁2和立柱3构成了机床本体的龙门式结构,为保证足够的刚度,横梁和立柱连接处补充了加强筋结构。机床横梁结构为简支梁支承形式,通过在横梁内部筋板之间增加斜加强筋,形成稳定的桁架结构,减小横梁因重力而产生的变形。
1.Z向导轨2.横梁3.立柱4.砂带传动机构5.叶片装夹机构6.工作台7.Y向导轨8.底座
砂带传动机构安装在Z向导轨上,并可跟随Z向导轨一起沿横梁实现X方向运动,其系统简图如图2所示。砂带传动部分由安装在驱动轮6背后的步进电机提供动力,驱动轮、接触轮、张紧轮和砂带等完成能量传递。张紧气缸4驱动张紧轮5沿气缸活塞杆方向移动,使得砂带7处于张紧状态;工作时,受压气缸8在比例阀驱动下推动接触轮1沿叶片法向运动,三维力传感器9实时采集接触轮受到的抛光力。图中未标记的轮均属于惰轮。
叶片装夹机构安装在工作台上。工作台可绕自身旋转轴实现C向转动,并能沿Y向导轨直线运动,夹具带动叶片绕自身轴线的旋转定义为U方向。采用的叶片装夹机构,利用叶片榫根处的定位面进行装卡,实现叶片的对称定位,以有效控制叶片在抛光力的作用下产生加工变形,起到增加叶片的支承刚性、提高定位精度、减少阻尼振动的效果。
1.接触轮2.连接杆3.导向轮4.张紧气缸5.张紧轮6.驱动轮7.砂带8.受压气缸9.力传感器
2 关键技术的解决方案
2.1 柔性接触轮的设计
接触轮是砂带抛光系统的重要零件,接触轮材料的物理力学性能及表面状况对抛光精度以及表面质量有很大影响。接触轮表面硬度越大,磨粒上承受的压力越大,金属切除率越高,但同时与叶片外形适应性不好,造成表面粗糙度值大。因此为兼顾加工效率和叶片表面质量,应合理选择接触轮的硬度。
所设计的柔性接触轮如图3所示,表面使用弹性橡胶材料,利于砂带贴附叶片曲面,增大了砂带与叶片接触面积;同时对曲面有自适应的功能,可以适应叶片曲率在一定范围内的变化,充分发挥柔性轮“弹性”抛光的功能,以降低叶片表面粗糙度。另一方面,使用刚性元件作为接触轮的轴心,使之有一定的硬度,增大了砂带磨粒与叶片的接触作用,提高了抛光力和加工效率。接触轮表面具有开槽结构,能增强砂带的切入能力、加大磨粒的自锐性并使砂带和接触轮间有充分的变形空间,起到柔性作用。
2.2 砂带缠绕方式的布局
砂带缠绕方式的布局基于预防砂带跑偏、增大抛光力和利于抛光力的柔性控制三个原则。
各传动轮做成了中间高两边低的腰鼓形,转轴采用了轴平行结构,保证了砂带均匀受力,防止跑偏、皱折。惰轮的设置能够保证砂带与轮子之间保持较大的包络角,避免砂带振动,使得砂带能够传递更大的有效抛光力。
在砂带传动结构中用连接杆将导向轮和接触轮固连成一个整体,导向轮和接触轮的受力示意图如图4所示,砂带与叶片间的法向抛光力和切向抛光力分别为Fn和Ft,砂带所受的张力为F1、F2和F3,合理设计导向轮的位置使F1和F2的方向相反。不计轮子本身的转动惯量和轮轴轴承间的摩擦阻力,砂带对接触轮和导向轮系统的外力F1和F2大小相等。这样的砂带布局方式避免二者合力对接触轮的抛光力造成较大影响,利于抛光力的柔性控制,使气缸气压有较小变化时,接触轮便可灵敏地产生相应的微位移,保证砂带跟随叶片型面的变化产生均匀的抛光量,避免发生“过抛”和“欠抛”现象。
2.3 张紧力的调节
砂带张紧程度直接影响抛光效率、叶片加工质量和砂带使用寿命。在砂带强度允许情况下,材料切除率随张紧力的增大而增加。但是张紧力过大可能引起以下不良后果[5]:
1)接触轮变形,抛光能力减弱,开齿槽接触轮噪声加大,边缘磨损加剧;
2)砂带的延伸量加大,引起磨粒脱落、砂带断裂或砂带寿命缩短;
3)整个传动轮系支承轴及轴承载荷加大。
综上所述,在前期阶段为提高效率采用较大的张紧力,后期为使砂带获得良好的柔性,选择较小的张紧力。张紧力的大小由张紧气缸控制,当气缸的通气量增大时,气缸杆向前移动的位移较多,砂带的张紧力增大,反之砂带的张紧力较小。通过控制比例阀调节通气量,达到控制张紧力的目的。
2.4 抛光力的控制方案
抛光力是影响砂带磨损量、叶片表面质量及抛光性能的重要参数,恒力抛光可有效提高工件表面精度,延长砂带寿命。然而由于工件的变形及系统刚度的时变性,工件与砂带之间的抛光力会发生变化[6],因此,合理控制抛光力成为叶片抛光加工的关键技术之一。砂带抛光力控制系统框图如图5所示,工控机通过D/A转换控制比例阀的输出电压,比例阀控制气缸的通气量大小,进而控制抛光力的大小,在气缸导柱与接触轮之间的三维力传感器测得叶片所受的实际抛光力,并把抛光力值通过A/D转换模块传递到工控机中,在工控机中用Labwindows/CVI编辑了抛光力控制软件(如图6所示),通过虚拟仪器控制受压气缸的通气量,从而修正实际输出力的大小,靠近期望抛光力。设计中采用了低摩擦气缸,压力传感器的控制精度达到±1N,最终构成的半闭环控制回路为实现砂带抛光力高精度控制提供了保障。
3 叶片砂带抛光试验
利用上述的砂带抛光系统,在自行研制的机床上,对某型号叶片进行顺向抛光,即沿着铣削加工后的叶片表面波纹度方向进行抛光,抛光轨迹如图7所示。抛光过程分粗抛和精抛两个步骤,粗抛工序的目的是去除铣削加工后叶片表面波纹和缺陷,对叶片进行预抛光;精抛工序则为了降低叶片表面粗糙度,保证表面光洁度,最终满足叶片表面的完整性要求。粗抛所用砂带粒度为200目,砂带线速度控制在11m/min,砂带张紧力为80N;精抛的砂带粒度为400目,砂带线速度为13m/min,砂带张紧力是60N,砂带接头方式为对接。
图8为抛光前后叶片表面质量对比图,图中上方所示为抛光前的叶片,表面有很明显的铣削刀痕,精度差,无明显的光泽。经过砂带抛光后的叶片如图中下方所示,叶片表面质量均匀,精度提高,铣削刀痕消失,相邻抛光路径交叉处衔接平滑,叶片表面粗糙度和波纹度明显减小,叶片光洁度好。经对比,与同类叶片手工抛光时间相比,抛光效率可提高4-5倍。
4 结论
本文介绍了一种叶片砂带抛光系统,该系统采用了高刚度的龙门结构,设计了可控的砂带传动系统,使用了抗变形的专用叶片夹具,将控制系统的柔性与砂带抛光方式的高效有机地结合起来。优化设计接触轮,合理布局砂带缠绕方式,通过气缸调节砂带的张紧力,并采用抛光力柔性控制方案,最终实现了叶片的高精度恒力抛光。通过叶片抛光试验,证明该砂带抛光系统能够精确控制叶片的抛光量,加工精度满足使用要求。
参考文献
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抛光技术 篇2
化学抛光就是利用金属电化学阳极溶解的原理来实现整个化学修磨抛光过程,同时,如果把化学抛光配合机械精抛光的使用,更是发挥了电化学和机构两类的抛光特长,而且不受任何材料的韧性与材料的限制,对复杂的形状工件都具有一定的重要作用。
电解抛光与化学抛光也具有相同的特性之处,同样能去除复杂形状工件以及不锈钢加工后的表面毛刺处理工作,而且电解抛光所造出来的效果是相当不错的,表面光洁度更加优先化,
电解抛光主要是利用了在表面上出现一种极细的一小层黑色膜,再配合多功能软轴机械抛光器装上适当的毡轮,也可以涂上一层绿油膏进行表面抛光处理,就可以达到光亮的表面效果。光洁度要比化学抛光更加高,主要的特点是使用操作方便,还可以装上相应的工具进行钻,铣,磨,切,抛光等工作。
在“抛光”之前 篇3
我译此书是在一九八七年底定下的。一九八八年初赴美讲学时书只译了大约三分之一。虽把书稿带到了美国,可不可能在美国继续译下去,老实说实在没有把握。某日,在图书馆看书,得悉作家威廉·卢斯(William Luce)与女演员佐·考德威尔(Zo Caldwell)完成了名为《丽莲》的剧本,是根据丽莲·海尔曼的三部回忆录创作的,并于一九八六年一月十六日晚在纽约上演(我当然没赶上),时逢海尔曼的处女作《孩提时光》首次在纽约上演的半个世纪之后,上演《丽莲》的剧院离当年上演《孩提时光》的剧院只隔几条街。这三部回忆录中的第一部就是本书《未成器的女人》(第二部是《旧画新貌》,一九七三年;第三部是《邪恶的时代》,一九七五年),我续译的念头由之萌发。时隔不久,有机会去南方讲学。讲学之余,主人提出南方好几处名胜(如迪斯尼乐园,佛罗里达航天中心等),问我愿不愿前往一游。我说如能兼顾新奥尔良、德莫波利斯、辛辛那提三处,我当然愿意。他问我为何专挑这三个地方,我说跟某位女作家有关。我话音未落,这位专门研究美国南方文学的主人便恍然大悟:丽莲·海尔曼。我说“然也”。海尔曼出生在新奥尔良,她母亲的老家在亚拉巴马州的德莫波利斯,后来迁到辛辛那提。这还不算,去参观海明威旧居(在佛罗里达)时无意中经过了海尔曼在晚年居住过的萨拉索塔(也在佛罗里达),在去福克纳旧居(在密西西比州立大学内)的途中又一次经过德莫波利斯。游览毕,我向主人道谢。他叫我不要谢他,应谢海、海、福三位。我问他此话怎讲。他说是为了他们三位我们才得以几乎游遍了南方几个州啊。至此,我便决心忙上加忙,趁我在美期间把书译完,既了却了心愿也误不了原先定好的交稿期限。
海尔曼动手写《未成器的女人》时已经六十二岁,于一九六八年夏完成,翌年六月问世,好评不断,书店的订数猛增。其实,《未成器的女人》并不是传统形式的“自传”而是回忆随笔,信手写来,不拘一格,洒脱自如。写到一定的地方,索性插入某年某月某日的日记,不另起炉灶,“跳动”虽大,比板起面孔写自传的方式,倒另有一番新颖的风味。何况海尔曼的宗旨是“说真话,绝不拿事实开玩笑。”(见海尔曼为三部回忆录的合集所写的序言)但提出异议的也有,说海尔曼省略了不少不该省略的内容。也有人指出海尔曼应着浓墨于她的戏剧生涯,因为她是戏剧家,等等,不一而足。对此书的真实可靠性表示怀疑者也不乏人,有的甚至列举细节证明海尔曼的疏漏与失实,其中恐以海明威的前妻玛莎·格尔杭和波斯顿大学的塞缪尔·麦克莱肯干得最为起劲。兹举格尔杭为例:
其一,海尔曼写过海明威在某夜带着他的《有的和没有的》手稿去找她(见第七章)。格尔杭说海明威在那之前已去西班牙;进而以《旧画新貌》为佐证——海尔曼在《旧画新貌》中记述当晚经过时并未提及海明威找她之事而只写了她睡得如何香。
其二,海尔曼写过海明威与哈默特在纽约发生争执(见第六章)。格尔杭证明海明威当时已去古巴写他的《丧钟为谁而鸣》,一年之后才回纽约。
其三,海尔曼写过某夜同海明威和格尔杭在马德里遇到空袭,说她(海尔曼)未去阳台上看“火光冲天”的轰炸情景(见第八章)。格尔杭则说当晚根本没有空袭;即便有空袭,佛朗哥的飞机扔下的炸弹也不会发出火光的。
作家写回忆录,难免把某些往事记错;这里,究竟是海尔曼记错还是格尔杭记错了呢?难说。如果不是海尔曼记错而是格尔杭“记错”,又作何解释呢?原因恐怕只能从“个人恩怨”中去找了吧。海尔曼的脾气和她这个“未成器的女人”激励过许多人,但也是得罪过一些人的。格尔杭便是其中之一。这种情形,海尔曼自己也非常清楚。她在《未成器的女人》中让哈默特作过十分中肯的评述:“当你(指海尔曼——引者)快要发脾气的时候,几乎往往是正确的。但是稍有心眼的人很快就知道,如果让你继续说下去,你就会错了。……所以你不仅要为你的无稽之谈而道歉并且要为你的通情达理的真话而道歉。”(见第十五章)
海尔曼生前说自己是“未成器的”(unfinished)女人,字面上已含多层意思。似乎有“未死去的”、“事业未了的(大业未成的)”、“尚未一了百了的”、“宿愿未了的”等等……;其寓意就更其耐人寻味。深谙其意的恐怕要算约翰·赫赛。海尔曼于一九八四年六月三十日病逝,七月三日举行葬礼。赫赛在葬礼上致的悼词中有这么几句话:“亲爱的丽莲,现在你已成大器(finished),我说‘已成大器’是就其更深远的含义而言的。你生前的诚实正派和刚直不阿日臻完美(a high finish),光彩照人。”赫赛抓住“unfinished”一字,两次反其意而道了其中的真谛。第二次用的finish更是微妙——借用“抛光”之意从而引出了“光彩照人”的赞叹。“抛光”这最后一道“工序”固然可贵,但若木料或金属本身的质地不好,恐怕也是“抛”而不“光”的。
一九八八年十月于亚特兰大
抛光技术 篇4
应力抛光技术[1]的概念最早在1932年由Schmidt提出作为一种加工Schmidt校正板的独创方案[2,3],但是Schmidt并没有建立相关的应力抛光技术的理论。上世纪70年代美国加利福尼亚大学的Nelson教授第一次明确提出了Stressed Mirror Polishing即SMP方法,并用该方法加工了口径a=36 cm的离轴抛物面镜,最终加工得到的面形精度为rms=0.25λ。在Keck系统中,Nelson教授采用该技术加工了36块六角形的离轴抛物面,每块的对角线长度为1.8 m,面形为rms=0.395λ[4,5]。
在大规模加工大尺寸非球面时采用应力抛光技术作为前期基础加工,是一种有效的技术途径。
1 应力抛光技术原理
选取满足薄板要求的光学平板,即平板的厚度比它的其他尺寸小得多。首先,确定待加工非球面的面形及解析方程,由最小非球面度的原则计算出非球面最佳比较球面的解析方程,将光学平板上表面加工为非球面最佳比较球面的面形。基于弹性力学理论,得出在球面边缘施加何种力和力矩可以使球面变形成为待加工的非球面面形,施加对应的力和力矩作用在球面边缘,此时球面变形为待加工非球面面形。球面受力状态下,将待加工非球面加工为最佳比较球面面形,去除量的大小即为非球面与最佳比较球面的差值。释放掉球面边缘力和力矩,根据弹性力学的完全弹性假设可知,面形还原成为预定的非球面面形。控制均布在玻璃薄板周边的施力结构可以施加不同的力和力矩作用在被加工件上,如图1所示。
对于高质量的非球面镜的加工,与其他非球面加工方法相比,应力抛光技术看起来迭代速度快,能快速收敛到期望的面形,理论上非球面面形精度仅限于球面的抛光精度。对加工完成的非球面进行检测,如果面形精度不满足要求的精度,即可重新计算现有非球面面形的最佳比较球面,以及第二次抛光施加的力和力矩的数值,重复上述过程[6,7]。
2 应力抛光技术算法
根据玻璃材料的性质,完全满足弹性材料的均匀性、线性和完全弹性、各向同性及几何方面的假设,所以玻璃材料近似为弹性材料。即可以将基本的弹性力学分析原则代入玻璃薄板受力分析中,考虑小扰度变形的近似条件,将薄板问题简化成薄板中面的平面问题,从而得到分析弹性薄板的对称弯曲极坐标的解析方程[8]:
式中:EI是薄板的弯曲刚度,它只和薄板的厚度及薄板弹性系数有关,q(r,θ)是横向载荷,ω是薄板的变形量。这就是基尔霍夫的薄板小挠度理论的平衡方程,在既定的边界条件下,已知玻璃薄板周边施加的载荷既可以求得ω的解。
为了导出挠度ω与作用力的表达式,从薄板内取出一个微小的部分,弯矩用Mr,Mθ表示。
对式(1)多次积分得到一个解析解:
其中ω0为特解,由于玻璃薄板不受横向载荷,只受到作用于边缘的弯矩M0就可以实现抛物面与最佳比较球面之间的变形量。此时,式(1)中的q(r,θ)等于零,因此特解0w等于零。假定薄板中心没有孔,则常数C1,C2等于零,于是由式(4)得:
由式(5)、(6)既可以得出如何将一个球面镜通过在球面镜的周边施加某种力或力矩转换成我们需要的某种非球面,即已知非球面与球面之间的变形量求出周边施加多大的力或力矩来实现这种变形,也可以得到在弹性薄板周边施加既定的力或力矩,能够使球面镜产生多大的变形。
3 应力抛光技术加工抛物面的实验
3.1 实验镜参数的确定
实验镜的具体尺寸:口径为Φ314 mm,其上表面为平面,下表面加工为待加工抛物面的最佳比较球面,其曲率半径为r=2 400.32 mm,中心厚度为11 mm,边缘厚度近似为16.14 mm,径厚比约为1:20,满足薄板的径厚比要求,材料为K9。为了在实验镜的周边粘接6组施力结构对其施加弯矩,需在实验镜周边每隔30°共加工出12个通孔,孔到薄板的中心距离为139 mm,每个孔的直径要求为φ12+0+0..1020mm。
3.2 周边弯矩状态下球面镜的检测
已知球面镜的方程(x-2400.32-0.00339)2+y2=2400.322,根据Makcytob推导出的确定最佳比较球面的原则,得出抛物面的方程为y2=2×2396.2887x2。根据实验镜的几何参数及式(5)、(6)得出在实验镜的周边施加M=6.176 N⋅m的弯矩能够实现球面镜到抛物面之间的变形,其理论变形量如图3所示。
由图3可知,抛物面与最佳比较球面之间的变形量在原点处最大,其值为-0.00339 mm,在边缘处变形量为零。由应力抛光技术原理可知,周边弯矩作用下光学元件此时的面形由球面变形为抛物面,将抛物面抛光成为球面。采用ZYGO GPI 4″干涉仪对该光学元件检测所得到的面形数据图,图4为MetroPro软件去除相位常数、倾斜和离焦后的球面面形图,PV=2.801λ,rms=0.379λ,λ=0.6328µm。
3.3 自由状态下抛物面镜的检测
释放光学元件周边所施加的弯矩,对光学元件的面形进行检测。由于玻璃薄板只是近似为弹性材料,所以不会立刻发生弹性变形由球面恢复到抛物面,将试验镜在自由状态下放置72 h后测量其面形,图5为加工完成后的抛物面镜。采用三坐标机测量其顶点曲率半径,已知理想抛物面顶点曲率半径为2 396.288 7mm,实测抛物面顶点曲率半径接近于2 395 mm,rms为0.002 4 mm,曲率半径差值为-1.288 7 mm,其曲率半径相对误差为0.054%,测量数据如图6所示。
同样采用ZYGO GPI 4″干涉仪对抛物面进行自准直检测。图7为MetroPro软件去除相位常数、倾斜、离焦和彗差后的抛物面面形图,PV=3.317λ,rms=0.489λ,λ=0.632 8µm。
4 结论
针对非球面的低加工效率,基于弹性力学理论,分析了应力抛光技术的原理及算法,以加工口径为Φ314mm,F/7的抛物面镜为例,采用自准直检测得到的去除相位常数、倾斜、离焦和彗差后的抛物面面形图,PV=3.317λ,rms=0.489λ。通过对应力抛光技术的实验研究,与现有的非球面加工技术比较,可确定应力抛光技术能够快速地形成旋转对称的抛物面。该加工技术将非球面加工技术转化为成熟的球面加工技术,提高了加工效率,为大口径非球面加工技术提供一种有效的加工手段。
参考文献
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抛光车间管理制度 篇5
1.上班前必须穿好工衣,戴好口罩,手套等工作必需品(不能穿拖鞋上班),不能有迟到或早退现象发生。2.上班时必须听从组长安排,按时、按质、按量、按产品工艺要求完成所分配的生产任务。3.员工必须把掉在地上的产品及时捡起。
4.上班时不准玩手机,吵闹,更不准有吵架现象发生。5.不准动用工作中壁扇,否则后果自负。
6.员工在上厕所或抽烟等情况需要离开工作岗位时,必须关机。
7.员工有事需要请假时,必须先经主管或组长同意,写好请假单后,才能离厂。不能有代替请假的现象发生,否则按旷工处理。
8.员工下班前必须搞好本机台的卫生(包括地面、台面卫生以及轮子、篮子、模具的摆放等)做到岗位整洁、机停、灯熄、走人。
抛光车间 2011-11-2
抛光车间制度(坐机员工须知)
1.上班前必须穿好工衣,戴好口罩,工帽等工作必需
品(不能穿拖鞋上班),不能有迟到或早退现象发生。2.上班时必须听从机长安排,不能随便更换工作岗
位,更不准离开工作岗位。
3.员工没有机长的允许,不准按动任何电源开关,包括电风扇(特殊情况例外)。
4.上班时不漏隔模棒,不准谈笑、嬉闹、打瞌睡、玩手机,更不准有吵架现象发生。
5.员工必须把所有掉在地上的产品及时捡起来。6.员工必须把当天本机台所生产的一种或几种产品的废品用胶袋区分开来,交到当班QC处。
7.机器在正常运转时,不得进入生产区里搞卫生,否则罚款处理。
8.员工必须爱护公物,在用胶筐或胶篮时,必须做到轻拿轻放,否则,损坏公物照价赔偿。
9.下班前必须搞好机台卫生,以及机台周围的环境卫生(包括机器里面的地面,有用轮子和无用轮子的摆放,机器外面的胶筐、胶篮、胶盆,抛好与没抛好产品的摆放等)。
抛光车间
2011-11-2
抛光车间制度(机长须知)
1. 上班听从主管或领班的安排,准时开机,停机。2. 上班时间必须坚守岗位,不准玩手机,看报,不得擅自离岗,乱走乱窜。
3. 督促本机台的员工执行厂纪、厂规,及本车间的制度,并时刻跟踪好本机台的产品质量情况,发现问题及时处理。
4. 机器在调机或维修时,机长应相互配合,主动调机,修机,共同维护机器的正常运转。
5. 当班机长必须把当班机器的运转情况向主管或技术主管反映,以便维修,保养,尽量做到交接班时机器要正常运转。
6. 当班机长必须对当班本机台的生产情况有详细的记录。(如:所抛产品的名称,产量,坐机人员的姓名及用蜡情况等)。
7. 下班时必须保持车间整洁,做到人走,机停,灯熄。
温柔“抛光”赢得完美“蛋白肌” 篇6
1.Avene雅漾去角质净化面膜168元/40ml软化角质成分可温和剥落表层死皮细胞,配合按摩微粒温和去角质,并柔润肌肤,有助于减少局部瑕疵,
令肌肤回复洁净、健废。
2.Yue sai羽西白玲珑净化瞬采面膜220元/75ml蕴涵高岭土,迅速舒缓肌肤,吸附毛孔中的脏东西。清洗时,面膜中的磨砂微粒发挥作用,将老化角质和死皮轻轻柔去除。配合高效美白成分牡丹皮
提取液和红茶菌,帮助肌肤匀净透白。
3.Vichv薇姿泉之净纯净去角质
磨砂霜178元/75m1温和去除皮肤表面的老化角质,促进皮肤新陈代谢,改善皮肤质感。牛油果树提取物,合有甘油酯和脂肪酸,能有效滋润和舒缓皮肤。
4.L'Occitane欧舒丹杏仁苹果紧致磨砂膏330元/100ml
蕴涵温和去角质的杏壳微粒,细肤的普罗旺斯有机苹果精华,收细毛孔的有机苹果醋,再加上丰富的杏仁油,令肌肤柔软幼嫩,
分区对待脸和身体
因为皮肤各代谢更新速度的不尽相同,所以不能用简单的去角质产品一“磨”了之,需要分别定制。
1.物理性去角质:利用与皮肤产生摩擦力来去除角质,比如:磨砂颗粒。
2.化学性去角质:透过獬角质的方式去除角质,主要为果酸,其次为角质分解酵素,这两种成分,都必须以温润的状况“浸润”肌肤,才能有效溶角质。
选择去角质产品尽量温和,以果酸、A酸、水杨酸的效果最佳,其次为天然酵素。喜爱磨砂型去角质产品的人,以粒子较细较圆润者较适合。去角质产品切勿重复,若已1使用磨砂去角质产品,就不要再使用含果酸、水杨酸等产品,以免过度去角质,伤害肌肤。
当代谢变慢,角化异常,表面堆积太多老废的角质细胞,肌肤便会缺乏透明感,更可能造成粉刺青春痘的产生,因此,定期并适当地去角质是有必要的。干性或敏感性肌肤,可两周—次,若无过敏反应,则可增加至一周一次,至于油性或混合性肤质,则可一周两次或周一次。
小新老师的抛光攻略
常用的磨砂颗粒分为两种:一种是化学聚合物颗粒,较圆较细。相对较温和另一种是天然颗粒,表面较粗,能强效剥离老化角质并清洁毛孔。另外还有泥浆式的土质颗粒,可以吸附油脂,帮助去除角质,更适合油性肤质。
磨砂型去角质产品的缺点是摩擦系数比较大,如果使用时力度过大,会给皮肤留下细小划痕,因此皮肤敏感或干性皮肤的人,就应使用质地轻柔的,一颗粒磨砂膏,使用去角质疑胶效果更好。
另外,定期去除老废角质,可帮助保养品吸收。建议视肌肤状况每周一到两次,较脆弱肌肤可每10~15天一次。
家弘老师的抛光攻略
上臂外侧或大腿前面等是容易毛囊角化的部位,而四肢关节、脚底、脚踝、足后跟等也是容易粗糙的部位,因此可以局部加强去角质。至于像脖子、腋下、胸部等柔软的地方,则不建议经常去角质。
每天洗澡就有去角质的效果,尤其是使用沐浴海绵或沐浴球等辅助工具,在每天搓揉肌肤的过程中,已经能去除身体老废的角质细胞,如果还是觉得不够干净,每周进行一次身体去角质即可,千万不要过度去角质,尤其是肌肤较为干燥者,皮肤会变得容易发痒。
身体、背部可选择温和的果酸、水杨酸、或圆润不粗糙的磨砂颗粒。目前市场上也有沐浴专用去角质手套可供参考。四肢关节、脚底、脚踝、足后跟等容易粗糙的部位,可选择粗颗粒的海盐、磨砂颗粒丝瓜布。
优质草根洗颜品——绿豆粉
绿豆粉含有丰富的B族维生素、卵磷脂,对肌肤具有极佳的深层洁净效果,能够有效去除肌肤上的油光与脏污,而且洗后清爽不油腻。绿豆粉加上水调成泥状,可用在洗脸、敷脸、沐浴,并可兼作磨砂膏,去除老废角质层,又兼具润肤效果,使肌肤看起来更年轻、健美!
选购带壳磨成的绿豆粉,比不带壳的去角质效果更佳,且用此配方去角质时切记力度要轻柔并避开痘痘发炎部位!
面部去完角质后,要擦上保湿的化妆水、乳液或是精华液来锁水,身体则要涂抹身体乳液。
小新老师的抛光攻略
关节部位皮脂比较厚,角质也容易堆积,可以推荐磨砂微粒比较粗的产品,并且推荐合理的角质维护方案。
身体某些部位的皮肤要比脸部更脆弱,比如手臂、大腿内侧和前胸部位。脸部的肌肤由于长期暴露在外,因此自动提高了自身的防御能力,所以某些酸性的去角质产品不适合身体,否则会给身体肌肤带来较大的刺激。很多人觉得身上的皮肤较厚,去角质时怕不彻底,使劲用力揉搓,导致红肿、脱皮,还误以为这样才洗得彻底,其实这是错误观念,还是应该使用专门的身体护理产品。
现在市面上去角质产品种类越来越多,其中角质调理化妆水或美容液也越来越受女性欢迎。那是因为产品中由于添加了酵素、水杨酸等成分,通过涂抹和擦拭肌肤,可以帮助溶解死皮和污垢,清理肌肤,温和且不刺激。因此,在日常保养程序中,加入去角质功效的美容液,目的是让后续的保养成分便能顺利被吸收,皮肤也不会感觉到黏腻。
需要注意的是,在使用去角质功效的美容液时,动作一定要轻柔,因为美容液内含有的成分会溶解角质,擦拭动作本身也会带起部分老废角质,如果来回擦拭太多遍,很可能角质会去过头,而使皮肤失去该有的保护屏障。
1.EISENBERG伊诗贝格瞬间柔滑去角质
凝胶(SEPHORA独家发售)420元/150ml凝胶中的磨砂粒子和维生素E红色微粒球共同作用,能迅速使皮肤展现出柔软。火山岩微粒能够有效去除老化角质,促进血液的微循环和细胞更新。
2.PeterThomasRoth彼得罗夫PTR活颜亮肤柔和磨砂膏320元/250ml
高科技智能型配方,超细荷荷巴粒首先会剥落皮肤表层的死皮细胞,使肌肤纹理愈合,使肌肤绽放年轻鲜活的光彩。
3.Sasa廿nnie水蜜桃角质更新凝胶(莎莎独家有售)78元/90g
水蜜桃精华、熊果素、金缕梅、茶树等植物纤维素能温和去除老化角质及改善肤色暗亚,还具有收细毛孔之功效。
4.Camenae嘉媚乐薰衣草身体角质溶解露99元/250ml
啫喱状质地增添使用好感,让肌肤容易敏感及干性肌肤人群也可以使用,薰衣草精华还能安抚干燥的肌肤。
5.JUSTBB绿茶青柠磨砂膏
69元/120g
青柠粒子可去除死皮,促进血液循环,绿茶更带有抗氧化功效,修护肌肤薄弱角质。
干肌肤用去角质水
定期给脸部去除老废角质,可以帮助护肤品更好地吸收。如果皮肤比较油,代谢比较陕,那么一周两次去角质比较合适。可以用一些按摩式去角质品,比如磨砂类。对于干燥肌肤来说,15天
左右一次即可,选择一些按摩式去角质水会远远比单纯磨砂效果好。用一些去角质霜或者磨砂类产品前先用热毛巾热敷,再用去角质产品进行按摩,效果更好。腹部、大腿内侧等可以用一些介于磨砂与水之间的产品,比如一些天然质地的大米成分的专业按摩霜凝胶等,可以及时进行温和去角质。泡澡是关键
背部、趸部是穴道和血管分布较多的部位,多用温水、热水泡。其实泡澡也是很好的去角质方法之一,对于背部、足部都有专门的去角质霜可针对性选用。市面上还有一些身体去角质的刷子,也可以帮助适当去角质。去角质工作结束以后千万不要忘记涂抹身体霜才算完整。
私家小窍门就是,在泡澡之前先淋浴,去除皮肤表层的灰尘,然后涂抹厚厚的乳液进行按摩再跳进浴缸,让肌肤在较高的温度下将毛孔打开并很好地吸收乳液的养分,最后用毛巾进行擦拭就大功告成了。
面部比较推荐Chael的美白亮肤调理液、DQ蒂珂去角质凝露,两款都是比较温和的去角质产品。身体我推荐AFu的阿芙香薰杏仁浴糖,糖的棱角比盐要柔和一些,加上橄榄油可以起到很好的滋润柔滑作用,能够更好更细腻地去除废旧角质。
用硫磺皂先消炎
个人认为要想让肌肤光洁柔滑,清洁是第一位的。沐浴时选择适合自己的沐浴露,如果后背长有痘痘的话,建议用硫磺皂,既可消除毒素,还能起到杀菌、消炎的作用。可以分区清洗,在有痘痘的地方使用,切记,不可用罾砂产品对付痘痘。可以使用含有滋养油成分的沐浴液,如欧舒丹的甜杏仁沐浴油,及H2/sub<>O和欧缇丽的身体磨砂。洗后肌肤光滑不干燥,对于老废角质也可以很好地调理及去除。在关节的位置尤其是脚胳膊的地方,可以用磨砂产品多揉一会儿。可以选用丝瓜型的清洁工具,也可以起到去角质的作用。
及时涂抹润体乳
沐浴后一定要涂身体乳,七成干的时候涂身体乳效果最佳。涂乳液的时候进行按摩是非常重要的,从下往上擦,对于增强血液循环有好处。还可以轻拍身体,有助于吸收,又能让肌肤保持弹性。
巧用脱毛产品
如果怕痛就不要选择蜜蜡型的产品,可以选择脱毛乳,如果肌肤容易过敏,建议用脱毛器。
飞利浦的电动脱毛器也是可以尝试的安全型“除草”工具,冰凉的剃刀头还能镇定肌肤,缓解除毛后肌肤的不适感,不过,脱毛后最好使用温和舒缓的乳液来安抚一下肌肤。
新登场
唇部的果冻色“蜡笔”
Cliniaue倩碧水漾滋润唇膏笔迷人的饱满润色效果,加上长效晶冻润泽配方,让双唇立刻拥有令人垂涎欲滴的果冻般效果,天然植物精油与抗氧化成分——乳木果油、芒果籽油与荷荷巴籽油,能呵护细嫩唇肌,同时达到立即与长效保湿的效果,呈现水润光耀且充满弹性的晶冻翘唇。从此和苍白的双唇以及恼人的唇纹说再见!
夏季毛孔“隐形”霜Benfit贝玲妃反恐精英脸部底霜
淡淡的遮盖效果以及一抹即可隐匿毛孔的柔滑质地,帮助调理皮脂分泌、保持油水平衡。增加肌肤柔嫩度,创造轻薄光滑的触感。可以用指肚轻轻以画圆圈或者轻拍的方式涂在两颊和T字部位即可。或者单独使用或是当作底妆前的打底。补妆时也可使用。
缔造初雪般素颜肤质
Kose高丝雪肌精纯怡基础彩妆系列
Kose研究发现,六角形雪结晶粉体即使在球状表面上也不会发生叠加,而是会自动在空隙中整齐排列,形成多孔构造,从而演化为极度轻薄的化妆膜。正因这样的巧妙构造,整套雪肌精纯怡系列能让女性时刻体会轻盈妆感,如同做了细致肌肤护理后的素颜妆感,展现生动自然的立体美感。
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这款染烫损伤理护恒卷丰盈凝萃露,直接针对染烫所造成的累积性秀发损伤。独特配方的纤维角蛋白,深入渗透并补充秀发流失的蛋白成分,帮助秀发回复活力与卷曲。焕活毛鳞片精油,能有效修护毛鳞片,紧锁养分,令卷发弹性丰盈。
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Estee Lauder雅诗兰
黛欢沁花雨香氛
灵感取自雅诗兰黛最畅销的欢沁系列香氛的情感平台,全新欢沁花雨代表了一种对原始、经典的理念更为有趣和即时的表达。花果香型包含摩登生活的活跃和欢喻,糅合了甘美的果香以及斑斓的花香。令人垂涎的葡萄柚和成熟甘美的覆盆子气息为紫罗兰的精致魅力增添了—种令人振奋而摩登的感觉。
肌肤的立体三色亮颜粉饼
L’Oree al Pads巴黎欧莱雅雪颜珍自三色亮颜两用粉饼
有了双色粉饼的珠玉在前,这款最新的三色粉饼除了依旧延续淡化斑点、改善黯沉、盈白肌肤的效果外,还有一个三重修颜功能。第一层底妆色能隐藏斑点,匀台肤色。第二层BB色能调整肤色晦暗。第三层提亮粉色,让肌肤呈现粉嫩气色。
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POLA新BA系列新升级
抛光技术 篇7
海南、广东、广西属热带、亚热带海洋性气候,海岸线长,岛屿和港湾众多,周年海水水温基本保持在15~30℃,海水盐度比较稳定、透明度大,水质良好,日照时间长,饵料生物种类和数量丰富,具有养殖马氏珠母贝的良好条件。得天独厚的地理条件铸造了南珠的优良品质。南珠晶莹雅致、色泽艳丽、光彩夺目。南珠闻名遐迩,饮誉海内外。然而,自20世纪90年代中期开始,我国的南珠产业就出现了严重的滑坡,失去了昔日的辉煌,造成这种局面的原因是多方面的,南珠加工技术不规范是主要原因之一[2]。由于缺乏科学指导,在抛光环节,所采用的机器设备、抛光材料、生产环境和工艺过程等缺乏科学性,导致南珠质量不稳定,整体质量下降。为了深入实施国家科技部科技支撑课题“珍珠高值化加工技术与产业化”,制定南珠抛光技术规范的企业标准迫在眉睫。用标准来规范南珠抛光,可以提供南珠产品质量,促进南珠产业的健康发展。
1 总体思路
自2009年11月三亚海润珠宝有限公司确定了《南珠抛光技术规范》企业标准的编制任务后,组织有关人员多次到广东省湛江市、广西北海市等南珠加工生产企业,开展了调研,进行了抛光材料、抛光工艺的研究和必要的试验验证工作,开展了抛光前后南珠的电子显微镜观察和红外光谱分析。参考了国内相关标准,如国家标准GB/T 18781-2008《珍珠分级》和GB/T 16552《珠宝玉石名称》。在上述工作基础上,按照国家标准GB/T 1.1-2009《标准化工作导则第一部分:标准的结构和编写规则》等的规定进行标准编写。征求了有关技术专家和行业管理人员对该标准的意见,于2010年5月形成本标准。
2 技术路线
根据我国现有法律和法规,鉴于南珠抛光生产现状,通过查阅大量相关文献,在对南珠抛光进行生产试验和分析的基础上,按照企业标准格式的一般要求,提出南珠抛光技术规范,本标准制订的技术路线如图1所示。
3 标准的结构和主要内容
本标准主要对南珠抛光的定义、机器设备、抛光材料、生产环境和工艺过程进行规定,同时参考现行相关标准,对主要技术指标进行试验验证后形成本标准。主要内容说明如下。
3.1 适用范围
本标准规定了南珠抛光加工中的定义、机器设备、抛光材料、生产环境和工艺过程。
本标准适用于南珠加工中的抛光。
3.2 规范性引用文件
GB/T 16552《珠宝玉石名称》和GB/T 16553《珠宝玉石鉴定》中有关珍珠、珍珠鉴定和优化处理工艺的名称适用于本标准。GB/T 18781-2008《珍珠分级》是中华人民共和国珍珠方面的国家标准,其中有关珍珠光泽和光洁度的名称适用于本标准。
3.3 术语和定义
GB/T 16552、GB/T 16553和GB/T 18781-2008确立的以及下列术语和定义适用于本标准。
南珠(Chinese cultured pearl):采用马氏珠母贝通过插核、育珠而成的海水养殖珍珠。目前,中国海水养殖珍珠绝大部分为采用马氏珠母贝插核、育珠而成。其他珠母贝珍珠和人造珍珠不适用于本标准。
漂白(Bleaching):以增加南珠白度为目的,所采用的去污脱色加工工艺。
抛光(Polishing):南珠漂白后,为了增加珍珠的光泽所进行的加工工艺,即提高南珠表面反射光的强度及映像的清晰程度。
为了更好地理解本标准中3.4—3.8的有关内容,现简述南珠抛光的主要原理[3,4]。
光泽是南珠表面的一种物理现象。南珠表面受到光线照射后,会产生反射光。南珠的光泽是指南珠表面反射光的强度及映像的清晰程度。南珠表面越平滑,珍珠层中文石晶体越细腻,结合越紧密,南珠的光泽越强。
南珠是马氏珠母贝生命活动的分泌物,是由许多文石结晶层与有机质层重叠粘结而成。在插核育珠等养殖过程中,由于海区环境条件的影响,育珠母贝生理状态不同,绝大部分南珠呈现各种不良颜色。由于珠核表面存在平头、珍珠层生长的不平衡和育珠母贝的异常生物矿化,导致南珠表面出现一些暇疵,如凹陷(平头)、隆起(丘疹、尾巴)和皱纹(沟纹)等,使南珠表面凹凸不平。从观察南珠剖面可知,褐黑色素主要分布在珠核与珍珠层之间,其他不良色素多分布在珍珠层内。南珠漂白是通过物理和化学方法去除珍珠内的不良色素物质。经过漂白,南珠表面会形成很多微小孔洞,在南珠钻孔时有时会产生针夹痕、划痕和裂纹等表面缺陷。上述暇疵、微小孔洞和表面缺陷都会降低南珠表面反射光的强度及映像的清晰程度,即对南珠光泽产生负面影响。南珠抛光就是要提高珍珠的光泽和表面光洁度。抛光是南珠优化工艺中的最后一道工序,它反映了南珠加工技术水平的高低,抛光结果直接影响着南珠的质量和市场价格。
南珠是一种有机宝石,从抛光的原理来看,南珠有别于其他宝玉石。其他类宝玉石如钻石、玉石的抛光过程是一种磨削的过程,是机械作用(磨细)、化学作用(形成表面塑性层或溶化层及分子层重新流布)和物理化学作用(抛光剂、水和宝石表层物质之间的物化反应)的过程。而南珠抛光是一种磨削与添补的过程。一方面,抛光载体可磨削珍珠表面的凹凸不平;另一方面,将光亮物质(即蜡质)添补到南珠表面微小孔隙和表面缺陷中。使得光线在南珠表面传播时保持连续不断,从而提高珍珠的光泽和表面光洁度。
3.4 机器设备
采用抛光桶内壁为塑料或木质的抛光机,运动方式可以为离心旋转或上下振动。离心旋转式抛光机,具有自动控制系统,转速和抛光时间能够按需要进行调节。上下振动式抛光机的抛光桶上应有加热装置。塑料或木质的硬度低于南珠,不会磨损南珠。抛光桶上有加热装置,如灯光照射可减少抛光时间。无论采用哪种运动方式的抛光机器,如离心旋转式或上下振动式抛光机,都是为了让抛光材料充分地反复地磨削南珠表面的凹凸不平,提高南珠表面光洁度,进而提高南珠光泽。
3.5 抛光材料
抛光载体为经过去脂脱水的玉米芯或核桃壳等抛光材料,抛光蜡为白色、熔点低的蜂蜡、地蜡等以及它们的混合物。抛光蜡先浸入到抛光载体中。
抛光设备与抛光材料的选择是南珠抛光的关键。抛光机可根据生产规模大小分为水平离心旋转式、垂直离心旋转式、上下振动式。在抛光机的运行过程中,抛光材料充分地反复地磨削南珠表面的凹凸不平,由于抛光材料与南珠的磨擦生热,当升到一定温度时,已先浸入到抛光载体中的固态蜡产生熔融,熔融态的蜡容易添补到南珠表面微小孔隙和表面缺陷中。最初的南珠抛光是将南珠放入浸过松节油的软皮子上打磨,再用硅藻研磨,最后用橄榄油和熟皮打光。后来多采用竹叶青三角片、木块、核桃壳、熟羊皮、石蜡和南珠混在抛光机里一起抛光。目前,南珠加工中所用抛光材料为核桃壳或玉米芯,呈不规则粒状。这2种抛光材料有较好的韧性,硬度与南珠相当,在抛光过程中不损伤、不污染南珠。抛光蜡的颜色为白色,在高温季节呈固态。选择熔点较低的蜂蜡、地蜡等以及它们的混合物作为蜡质。
3.6 生产环境
在室内生产场地,明亮,通风,干燥,无粉尘,周围无燥音(小于60 d B)。抛光环境在在室内生产场地,避免日晒雨淋。明亮,通风,干燥,以便于生产操作。无粉尘,有利于保持珍珠和抛光材料的洁净。周围无燥音(小于60 d B),在抛光设备出现故障发出异常声音时,能够及时察觉,以便采取措施解除故障。
3.7 抛光操作要求
严格按抛光机安全生产规程进行作业。注意安全生产,强调按设备规程作业。抛光前要洗净、烘干南珠,将表面受腐蚀南珠剔出。湿润的、不洁净的南珠不仅达不到抛光效果,而且会污染损坏抛光材料。表面受腐蚀南珠会损耗抛光材料,价值不大,不必抛光。抛光材料要用密封的容器存放,应防潮。避免使用发霉的、抛光蜡已耗尽的抛光材料。发霉的、抛光蜡已耗尽的抛光材料达不到抛光效果,还会浪费能源和时间。
3.8 工艺过程
先将占抛光桶容积的2/5~3/5的抛光材料放入抛光桶中,再加入占抛光桶容积的1/5~2/5的南珠,抛光桶要留有1/5左右的空隙以利于抛光材料与南珠在抛光桶中翻滚运动。在抛光过程中,抛光材料会发生受热膨胀,抛光材料装得太满,会阻碍抛光的充分进行。开动抛光机,进行抛光。离心旋转式(转速为40 r/min左右)连续抛光时间为2.5 h左右;上下振动式连续抛光时间为6 h左右。抛光时间的确定以抛光效果为准。南珠个体差异性很大,并且南珠表面暇疵和缺陷的种类、数量、分布特点等也有所不同。因此,抛光时间不尽相同,一般说来,离心旋转式(转速为40 r/min左右),2.5 h左右的抛光时间;上下振动式为6 h左右都可以将抛光材料的温度提高至50℃左右,使抛光蜡产生熔融。在冬季气温较低时,可适当增加抛光时间,具体抛光时间可通过抛光试验确定。自动或手动控制抛光机,关闭电源,取出南珠、抛光材料,将抛光材料密封保存。
4 结语
本标准的编制依据为现行的法律、法规和强制性国家标准,并与这些文件中的规定相一致。
目前,国际上日本对珍珠养殖、加工和质量检测等制订了一套技术标准,但日本对珍珠技术及标准严加保密,他国无法查询和了解。GB/T18781-2008是我国关于珍珠分级的国家标准,对养殖珍珠的定义、分类、质量因素及其级别、等级指标、检验方法和标识的要求进行了规定,但不涉及南珠抛光技术规范方面的内容。
我国南珠加工生产长期处于一种无序的状态,南珠生产曾一度陷入产量低、质量差、市场竞争力下降、产业效益不景气的困境。针对这一状况,《南珠抛光技术规范》企业标准的制定,为三亚海润珠宝有限公司生产和管理部门对南珠抛光进行监督管理提供依据,有利于规范公司南珠抛光生产,提高南珠加工质量,增强公司南珠产品在市场上的竞争力;提高南珠销售量和附加值,提高本公司的经济效益,推动我国南珠产业的进一步发展。
参考文献
[1]童银洪,邓陈茂,黄海立.广东南珠产业标准化现状与对策[J].海洋与渔业,2007,103(8):24-26.
[2]童银洪,邓陈茂,陈敬中.中国珍珠业的历史、现状和发展[J].中国宝玉石,2005,57(3):27-29.
[3]邓陈茂,童银洪.南珠养殖和加工技术[M].北京:中国农业出版社,2005:71-91.
浅谈不锈钢抛光技术及工艺过程 篇8
关键词:抛光技术,抛光制品工艺,不锈钢
随着科学技术的不断进步, 产品在市场的竞争日益激烈, 对金属设备表面加工质量要求越来越高, 作为零部件表面加工质量的关键工序之一的表面抛光更不例外。在我公司压力容器储罐生产中, 如何改进和提高传统的抛光工艺技术水平, 并根据需要开发新的更好更先进的表面抛光技术是一项重要的任务。
1 不锈钢罐体抛光技术
不锈钢抛光是指利用机械、化学或电化学的作用, 使工件表面粗糙度降低, 以获得光亮、平整表面的加工方法。本文主要介绍运用手工机械抛光方法, 对压力容器储罐工件表面进行加工, 以达到设计要求。
根据多年抛光工作总结, 其抛光过程大致可分为:打底、粗磨、焊道和板材表面缺陷处理、细磨、抛光等六部分, 下面分步介绍不锈钢储罐的抛光技术。
1.1 打底
第一道工序打底是整个抛光工艺中的重要环节, 板材打底的好与坏直接影响到下一道工序的进行, 基础打的好, 可以避免以后由于对打底的修补造成板材凹凸不平的效果。
首先, 根据罐体成型时外表面划伤程度和封头成型过程确定用60#与80#砂带或千叶轮做第一道开粗工序。注意千叶轮与设备安装时的旋转方向, 不得反转。其次, 打磨工程中, 要求千叶轮与板材表面垂直, 力度均衡, 方向一致, 打磨掉板材原始表面, 根据板材的表面缺陷程度选择打磨遍数, 一般为2~4遍。
1.2 粗磨
如果第一道打底工序用80#砂带或千叶轮打磨, 则第二道工序用120#砂带或千叶轮打磨;如果第一道打底工序用60#砂带或千叶轮打磨, 则必须从60#—80#—120#那样类推, 用120#千叶轮打磨, 要求细化80#千叶轮所产生的粗痕, 直至消除80#千叶轮所产生的所有磨痕。每次更换千叶轮打磨要求与上一工序打磨方向垂直。
1.3 焊道和板材表面缺陷处理
第二道工序结束后开始对焊道和板材表面缺陷进行处理。
1.3.1 对于焊道的处理, 首先用角磨片打磨, 角磨片在使用时要求砂轮的尖端要保持在对加工表面15度位置上, 力度适中, 作业区周围应设有护栏, 砂轮应及时更换, 避免由于力度过大或砂轮破损导致砂轮飞溅伤及自己和他人, 要求把焊道打磨至与母材平齐, 打磨过程中应注意不要对焊道两侧的板材造成较大的划痕, 然后开始用120#千叶轮对焊道及周围进行大面积打磨, 打磨结束后用肉眼观察和用手触摸, -面平滑无明显凹凸感为合格。
1.3.2 对于板材表面小坑等表面缺陷的处理, 对于板材表面缺陷深度≤0.2mm, 直接用120#千叶轮打磨处理, 对于板材表面缺陷深度>0.2mm, 需用氩弧焊点焊处理后, 用120#千叶轮打磨至与母材平齐。打磨过程中应使用大面积打磨法, 避免处理点焊时, 处理位置集中, 力度过大, 导致处理后局部低于母材表面。
1.4 细磨
(1) 第三道工序用180#千叶轮打磨, 要求细化120#千叶轮所产生的粗痕, 直至消除120#千叶轮所产生的所有磨痕。
(2) 第四道工序用240#千叶轮打磨, 要求细化180#千叶轮所产生的粗痕, 直至消除180#千叶轮所产生的所有磨痕, 第四道工序完成后, 要求表面粗糙度达到1.6以上。
(3) 如果要求表面粗糙度达到0.8以上, 用320#碟轮细化240#千叶轮所产生的粗痕, 直至消除240#千叶轮所产生的所有磨痕, 使用碟轮时要求砂轮的尖端要保持在对加工表面15度位置上。
(4) 如果要求表面粗糙度达到0.4以上, 用320#千叶轮打磨, 要求细化240#千叶轮所产生的粗痕, 直至消除240#千叶轮所产生的所有磨痕, 然后用400#碟轮打磨, 要求细化320#千叶轮所产生的粗痕, 直至消除320#千叶轮所产生的所有磨痕。
(5) 在上麻轮前的最后一道工序应均匀打磨, 方向一致, 可大大避免表面光亮不一致的效果产生。
1.5 抛光
(1) 第五道工序用麻轮+紫蜡/绿蜡对板材表面进行抛光处理, 要求多上蜡, 布满板材表面, 至少两遍, 整体光亮度一致。
(2) 第六道工序用毡轮+紫蜡/绿蜡对板材表面进行最后抛光处理, 至少两遍, 要求消除第五道工序所产生的镜面花, 纹理不均匀的效果, 达到设计要求。
2 不锈钢抛光制品的工艺过程控制
2.1 板材的选择
选择大型企业所生产的钢板, 金属表面无明显划痕, 凹痕, 表面平整光滑。
2.2 制造过程中的控制
分步进行制造过程的控制介绍:
1) 抛光工具及材料的摆放符合安全标准, 抛光现场保持清洁。
2) 领料时, 操作者要仔细观察表面, 如有明显划痕, 凹痕, 表面不平整可拒绝领料。
3) 下料时, 尽量避免用剪切机剪料, 避免剪切边的扭曲变形。
4) 刨边时, 板面上应尽量避免沾上油污, 压紧柱下尽量加上石棉板、纸板等, 避免出现压痕。
5) 筒体卷筒时, 要选择好的表面作为抛光面。
(1) 卷板机卷制前, 要仔细检查扎辊表面, 有无焊渣, 拉痕, 并加以修磨光滑。
(2) 卷筒完成后点焊时, 不要在卷板机上作业, 应异地点焊。
(3) 焊接前, 将焊道两侧5mm外涂白噁粉, 以防焊渣焊痘, 所涂防护层每侧至少200mm以上。
(4) 筒节与筒节组对时, 筒节与封头组对时, 应尽量避免直接锤击, 以防出现锤痕, 如避免不了用斜铁组对时, 组对后要把焊口处理与母材平齐, 不得低于主材表面, 且要圆滑过渡。
2.3 抛光过程的控制
(1) 抛光工在使用千叶轮, 百叶轮时, 一定要带好防护用品, 旋转切线方向要加防护板或防护网, 以防伤人。
(2) 每道工序结束后, 都要仔细清理上道工序所遗留的切削物, 磨具磨损的砂尘, 避免划伤后序表面。
(3) 如需罐内作业, 操作工在入罐前需清理鞋底砂尘, 且穿上布制脚套。
(4) 分体抛光完成后的零部件, 抛光表面贴上塑料保护膜, 需要焊接的零部件在焊道两侧预留出50~100mm的位置, 焊接前焊道两侧预留出的部分要加上>1mm厚的保护膜。
2.4 铆焊工艺的控制
(1) 下料时, 刨边要严格控制尺寸, 控制在板厚的1/8;焊接时, 杜绝错边量, 焊道余高<1.5mm。
(2) 封头如需拼焊, 筒体焊接时对于≥δ10板, 不管手弧焊还是自动焊, 都要采取焊接工艺的最低电流值, 且要求焊两遍以上, 且每焊完一遍要间隔一个小时在焊第二遍, 对于<δ10板材, 焊接时可执行一遍, 但必须将焊接电流控制焊接工艺的最低值。
(3) 抛光封头尽量采用冷压或热压。
(4) 如封头必须旋压, 应尽量增加旋轮旋转转数, 以表面肉眼观察无明显凸起为合格。
(5) 如封头拼焊, 无论热压, 冷压还是旋压, 都要严格检查, 两个面不允许有焊痘焊渣, 且焊道要修磨圆滑, 避免成型过程中由于受力掉渣划伤表面。
2.5 机加工件的控制
(1) 法兰, 接管等需机加工的零部件, 外表面粗糙度一定要达到Ra3.2以上, 且表面无明显的车削纹痕。
(2) 需机加工的零件一定要倒棱无毛刺, 不允许有未加工面的存在。
2.6 成品保护
(1) 经总检合格后的产品, 表面要贴塑料保护膜。
(2) 运输中底部要垫保护膜, 车厢上至少安放3个木方作为垫材, 用木方卡死, 且要求运输部门固定好设备, 以防前后左右窜动划伤表面。
(3) 装卸吊装时, 吊装夹要垫厚纸板, 石棉板, 胶皮等, 吊车要轻起轻放。
参考文献
[1]方景礼.金属材料抛光技术[M].国防工业出版社.
[2]李异, 刘钧泉, 李建三.金属表面抛光技术[M].化学工业出版社.
有机玻璃研磨抛光技术的研究进展 篇9
为了实现产品的外观和表面质量要求, 在产品精加工过程中, 经常使用研磨和抛光, 研磨和抛光过程的目的是为了获得在研磨和抛光过程中需要的形状和表面质量的产品, 研磨和抛光的工艺质量有许多因素, 包括:类型的工具在研磨和抛光, 工件材料, 颗粒厚度 (大小) 等使用;打磨和抛光过程当如加工路径的参数, 研磨和抛光机床主轴转速, 切削速度, 进给速度, 法国接触力, 处理时间和其他因素, 找到了这些参数的最佳组合, 打磨和抛光工艺的试验研究, 以满足产品的形状和表面质量要求和提高研磨和抛光的效率[1]。
1 有机玻璃的研磨抛光技术背景强
机玻璃在塑料中透光性最佳, 透射率高达92%~93%, 相对密度较小, 为1.19, 相对密度石英玻璃半透明塑料有机玻璃只有1/2:抗断裂性能, 并为硅玻璃7~18倍, 机械强度和超过10倍以上的石英玻璃更大的韧性;具有卓越的耐久性和耐老化的低温 (-50℃~60℃) 和 (100℃) 高温下, 冲击强度小的变化:良好的电绝缘性能, 可耐电弧, 良好的热塑性塑料的加工性能, 化学稳定性, 一般腐蚀能力强, 对酸, 碱低浓度是次要的, 因而在建筑, 航空, 汽车制造, 科学仪器, 文具及其他日常用品上有广泛的应用范围[2]。
2 由机械研磨抛光到准分子激光旋转抛磨法及系统
以前的准分子微细加工方法, 通过掩模图像投射激光直接向工件成像后获得所需的精细结构;另一种方法是使用激光束直写在工件上刻腐蚀的方法为重点。虽然这两种工作走在合作可以获取所需的三维微结构, 但易受掩盖其精度, 重点部位, 以及限制和其他因素, 但无法达到的表面质量优化。限制和其他因素, 但无法达到的表面质量优化。
准分子激光抛光法和旋转系统, 通过准分子激光蚀刻工件旋转, 以达到快速, 灵活的加工工艺轴对称微结构法, 并在此基础上, 进一步提高精度的表面处理装置的工艺参数控制。这是一种非接触式, 非磨削应力光技术, 是冷加工准分子激光设备的特点来达到降低表面粗糙度小, 该技术达到镜面效果。数控制。这是一种非接触式, 非磨削应力光技术, 是冷加工点来达到降低表面粗糙度小, 该技术达到镜面效果。
激光的LAMBDA Physik公司305IF类型, 作为芯片基板, 具体处理系统结构框图如图1所示有机玻璃。
准分子激光旋转抛光处理方法的主要原则和旋转装置, 如图2所示。被加工工件是固定的通过调节工作的旋转平台的中心, 并通过调整与转盘中心的对称工件主轴轴线重合, 以确保轴对称的结果处理。
由电脑数控系统述孔先生调整表和激光束的相对位置, 使激光束聚焦到工件被处理, 并通过激光能量, 激光频率, 距离控制工件和Guangban参数, 分别可达到蚀刻微抛光表面的装置和设备的目的。准分子激光加工旋转抛光方法有一个强大和灵活。对处理结果的例子, 只要与表中的不同的动作, 你可以实现对加工表面质量和改善品种结构部分, 以解决微器件容易损坏工件抛光的问题, 这是一个非接触应力自由的加工方法, 在微机械加工和抛光的工件, 具有广阔的应用前景。
3 由传统的手工研磨抛光方法到机器人研磨抛光方法
使用传统的手工抛光方法不仅费时, 而且难以保证一致的加工质量, 而工业现场的噪音, 灰尘会严重影响工人的健康。由机器人研磨, 抛光加工效率提高有机玻璃窗口处理, 机器, 确保产品质量, 降低劳动强度具有重要意义。上的划痕深度可设定不同的处理时间。
抛光机器人, 他的双手固定在电机驱动研磨和抛光工具, 研磨和抛光前与抛光研磨, 研磨和抛光的研磨抛光处理高速旋转电动工具装配工具旋转。研磨时, 研磨方一侧的水侵蚀, 而在抛光过程中, 除了研磨成毛垫, 而且使用的泥浆。为了提高抛光效果。方案确定时, 研磨和抛光, 研磨, 抛光研磨, 抛光设备和工具类型, 工件材料, 颗粒大小已经确定, 当已知加工要求, 加工路径和加工范围也已确定, 但研磨和抛光机床主轴转速∞, 切向速度V, 正常接触力△F, 进给速度f为未知参数, 研磨, 抛光参数w、v、△F、f作为效益和效率的研磨, 抛光定义主要因素, 对这些直接分析四个参数进行优化设计的正交设计中使用。在研磨和抛光的厚的部分, 见图3的实际过程。处理时间不同时, 相应的工件搬迁是不同的。加工工件上的划痕深度可设定不同的处理时间。
经过研磨抛光玻璃, 达到所要求的尺寸, 良好的表面光洁度, 与此同时, 参数优化后, 提高研磨和抛光的效率。机器人研磨抛光机窗有机玻璃工艺知识是建立在研磨和抛光机器人在试验的基础上, 具有一定的客观性。它对加工工件的抛光机器人不同的材料进一步研究是有一定的参考价值的。
4 结论
通过上述对有机玻璃的研磨抛光技术背景和工艺发展历史介绍, 本文由机械研磨抛光到准分子激光旋转抛磨法及系统和由传统的手工研磨抛光方法到机器人研磨抛光方法, 包括磨抛工序、磨抛路径及范围、磨抛策略和磨抛实验等等, 总结出经过研磨抛光后的有机玻璃的要求:外形尺寸达到要求, 表面平滑性好;同时, 经过参数优化设计, 提高磨抛的效率, 研磨抛光机窗有机玻璃的工艺知识是建立在大量机器人磨抛试验基础上的, 要具有一定的客观性。
摘要:本文介绍了有机玻璃的研磨抛光技术背景和工艺发展历史, 分析了由机械研磨抛光到准分子激光旋转抛磨法及系统和由传统的手工研磨抛光方法到机器人研磨抛光方法, 。包括磨抛工序、磨抛路径及范围、磨抛策略和磨抛实验等等, 总结出经过研磨抛光后的有机玻璃的要求:外形尺寸达到要求, 表面平滑性好;同时, 经过参数优化设计, 提高磨抛的效率, 研磨抛光机窗有机玻璃的工艺知识是建立在大量机器人磨抛试验基础上的, 要具有一定的客观性。
关键词:有机玻璃,研磨,抛光
参考文献
[1]Fan, s.R Gretton—Watson, J.H.G.Steinke, E Alpay, Chemical Engineering Science, 2003 (58) :2479-2490
[2]Schmidt J Finishing of dies and moulds-an approach to quality-oriented automation with the help of industrial robots, 1994 (1) .
[3]T.Y.Guo, D.K.Qu, Research On Path Planning for Polishing Robot Based on Improved Genetic Algorithm, Proceeding of the IEEE In.Con.on Robotics and Biomimetics, 2004:300-305.
[4]Ming J.T., etal.Development of automatic mold Polishing system, Proceeding of the IEEE In.Con.I') II Robotic&Automation, 2003:14-19.
抛光技术 篇10
1 化学机械研磨抛光垫关键技术解析
抛光垫根据其软硬程度和表面绒毛结构可分为含绒毛少的硬质抛光垫和含毛绒较多的软质抛光垫。一般粗抛过程为提高抛光效率用硬质的抛光垫;精抛过程由于要求的材料去除量少, 表面质量要求高, 多用软质抛光垫[3]。抛光金属时采用多孔渗水性的抛光垫;抛光氧化物时采用较硬的抛光垫。
化学机械抛光的抛光垫根据材料表面微观结构可大致分为四类:① 由聚酯纤维制成, 例如专利 (CN104625945A) 中涉及的一种采用聚酯纤维制成的抛光垫;②由多孔性合成革组成, 例如清华大学申请的专利 (CN102601727A) 中涉及一种以人造革为基垫材料的化学机械抛光垫;③由多孔聚氨酯组成, 例如美国罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司申请的专利 (US20080253385A) 介绍了一种以多孔聚氨酯为材料的多层化学机械抛光垫;④由无孔聚氨酯组成, 如日本株式会社SKC申请的专利 (JP2009501648A) 涉及一种具有互穿网状结构、无孔无气泡的聚氨酯抛光垫。
抛光垫的物理机械性能很大程度上决定了其抛光质量和效率。对于不同硬度的抛光垫, 硬度越高, 抛光效果越好, 能够达到要求的平整度, 但抛光过程中可能引起晶片表面划伤, 特别是当抛光压力较大时, 易造成严重的表面损伤。弹性模量和剪切模量对抛光垫的工作性能也会产生重要影响。弹性模量高则抛光垫对所加载荷的承受能力强, 剪切模量高则有利于抛光垫抵抗旋转力。
2 抛光垫技术发展趋势分析
化学机械抛光技术的提出始于1965 年, 随着该技术在工业上的应用范围不断扩大, 以及对工件表面光洁度要求不断提高, 抛光垫作为化学机械抛光技术的关键部件, 也已受到业内人士的普遍关注, 图1 为抛光垫相关专利在世界范围的申请量分布情况。
根据图1 的统计结果分析可知, 对于抛光垫的技术改进主要集中在美国、中国和日本, 德国、韩国等国家的研发能力也在逐渐增强。
各国每年申请量变化趋势如图2。
由图2 可知, 美国的抛光垫相关专利申请量在2006年达到顶峰, 日本、德国、韩国均在2003-2006 年左右专利申请达到最高峰, 此后有渐渐回落的趋势, 中国的申请量自2003年开始呈稳步增长态势, 表明我国在化学机械抛光技术领域的研发力度逐渐增强。虽然中日韩在专利总量上与美国存在较大的差距, 但近年来各国在该技术领域的差距正在不断缩小。从图中还反映出各国在近年来专利申请量均呈下降的趋势, 这也反映出经过数十年的发展, 化学机械抛光技术领域的相关研究日趋成熟, 该领域的技术研究将会向新的方向推进。
2.1 化学机械抛光垫的多层化
随着半导体技术领域的逐渐发展, 半导体器件正变得越来越复杂, 具有较精细的特征以及较多的金属化层。这种趋势需要抛光耗材改善性能, 以保持平整度并限制抛光缺陷, 因此需要具有能与低缺陷制剂相关的物理性质很好地相关联的多层化学机械抛光垫层叠体, 以增强其可修整性[4]。
基于此类技术需求, 美国罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司申请的专利 (US2014357163A1) 提供了一种具有柔软且可修整的抛光层的多层化学机械抛光垫层叠体, 能够提供低缺陷抛光性能, 并利于使用金刚石修整盘形成微织构, 对半导体晶片进行抛光, 并且不会对晶片表面造成破坏[5]。
2.2 化学机械抛光垫的窗口化
半导体器件的特征尺寸已逐渐向小型化方向发展, 如果晶片表面出现过大的起伏, 那么后续一系列的工艺对线宽的控制将会变得越来越困难。因此, 在半导体工艺流程中, 需要对化学机械平坦化过程进行监控。
为了实现化学机械抛光过程中的实时监测, 上海中芯国际集成电路制造 (上海) 有限公司申请了一项发明 (CN103978421A) 涉及化学机械抛光终点侦测装置及方法, 该装置可通过在抛光平台中安装一红外探测器, 通过具有窗口的抛光垫来探测抛光时晶圆表面的温度变化。
3 结语
目前, CMP抛光垫的研究方向有很多, 在对于抛光垫材料、物理机械性能、外形结构的技术改进日趋成熟的基础上, 该领域的技术改进正朝着多功能、集成化方向发展。
摘要:化学机械抛光是目前机械加工中唯一可以实现表面全局平坦化的重要技术, 作为CMP系统的关键部件之一, 抛光垫对抛光效率及抛光质量有着重要影响。本文通过对国内外抛光垫相关专利申请的分析, 阐述抛光垫技术发展现状及未来发展趋势, 为我国抛光垫相关技术的发展提供一些参考。
关键词:化学机械抛光,抛光垫,专利,发展趋势
参考文献
[1]许雪峰, 马冰迅, 黄亦申.彭伟利用复合磨粒抛光液的硅片化学机械抛光[J].光学精密工程, 2009, 17 (7) :1587-1593.
[2]熊伟.化学机械抛光中抛光垫的作用研究[D].广州:广东工业大学, 2006.
[3]余剑峰.新型化学机械抛光垫和抛光液的研究[D].广州:华南理工大学, 2010.
[4]T.Du, V.Desai.Chemical mechanical planarization of copper:pH effect[J].Journal of Materials Science Letters, 2003 (22) :24-26.
蔬菜种子表面抛光机问世等 篇11
上海交通大学智能机电系统控制研究所、上海市农科院园艺所(邮码:201106,电话:021-62200972)等单位前不久研制成功蔬菜种子表面抛光机,开发了适应工厂化生产的A型和适应家庭联产作业的B型两种机型。
该机具有除毛能力强(除毛率达90%以上)、种子损伤小、处理干净和清洁方便等特点,采用鼓风机作为除尘装置,使毛尘能及时排出。(上海辛洪芹)
光照决定羊绒生长
中国农业大学动物科技学院(邮码:100094,电话:010-62892728)贾志海教授主持的“绒山羊绒毛生长机理及舍饲半舍饲营养调控技术研究”,前不久通过了农业部组织的专家鉴定。
他们找出了羊的绒毛生长规律为:9~11月份为绒毛旺盛生长期,翌年2月停止生长。他们还研制出绒山羊专用添加剂。运用舍饲半舍饲营养调控技术可提高产绒量23.4%,繁殖成活率提高15%,保膘率达到95%左右。(北京范建)
飞播种子实现大粒化
中国科学院兰州化学物理研究所(邮码:730000,电话:0931-8277682)研制的飞播种子大粒化新技术,解决了飞机播种造林后种子的稳定性和成活率问题,前不久通过了甘肃省科技厅组织的专家鉴定。
他们研制出2~5分钟就能崩解的种子大粒化配方,经处理的种子黏结强度大,但遇水后内部结构疏松,有利于植物的发芽。该技术可防止种子位移,使飞播种子附着在沙丘迎风坡中上部,成苗面积率达到78%。(甘肃汪文)
新技术让黄鳝成活率显著提高
一项能显著降低黄鳝种苗死亡率的新技术,前不久由江苏省淡水水产研究所病害防治室(邮码:210017,电话:025-86560410)徐在宽研究员等人研发成功。
他们研制成功一种可有效提高鳝苗成活率的试剂,经过试剂处理的鳝苗,在温度为23℃、试验时间长度为10天的条件下,成活率提高22%;在温度31℃、时间长度为7天的条件下,成活率提高24%。这种试剂可广泛应用于鳝苗的暂养、运输等环节。(江苏申遂锁)
低糖板栗制品研制成功
武汉工业学院食品科学与工程学院(邮码:430022,电话:027-83955590)汪芳安教授承担的“低糖板栗制品的研制”项目,前不久通过了湖北省科技厅组织的成果鉴定。
他们开发了原味板栗仁、无蔗糖板栗罐头、低糖板栗果茶、低糖板栗蓉系列产品,较成功地解决了板栗褐变、淀粉回生的问题。(湖北黄芳)
锥栗抗栗瘿蜂品种筛选通过鉴定
福建农林大学植保学院(邮码:350002,电话:0591-3789365)陈顺立教授主持完成的“锥栗抗栗瘿蜂品种筛选及抗性机制研究”项目,前不久通过了福建省科技厅组织的专家鉴定。
抛光技术 篇12
我国陶瓷墙地砖的年产量已达到80亿平方米左右, 规模巨大。在创造了大量的经济价值的同时, 陶瓷墙地砖产业每年产生约1000万吨的固体废渣, 这些废料一部分经过循环利用已被本行业消化, 但还是有大量的废渣被填埋, 占用了大量的土地, 对环境造成巨大压力。填埋废渣中以生产陶瓷抛光砖产生的废渣为主, 由于这些废渣中含有Si C磨料, 在陶瓷烧结过程中会放出CO2气体, 影响陶瓷的致密度和性能而难以利用。目前国内已有企业利用陶瓷抛光砖废渣生产轻质陶瓷砖, 但轻质砖总产量不大, 消耗的抛光陶瓷废渣量极其有限。因而, 在产量大的陶瓷墙地砖生产领域循环利用陶瓷废渣, 尤其是陶瓷抛光废渣利用技术的开发, 是十分迫切的[1,2,3,4]。
本文探讨了添加抛光废渣的釉面砖制备工艺技术。根据前期对抛光废渣特性的研究成果, 由于釉面砖的烧成温度较低, 是适合大量使用抛光砖废渣的, 但必须根据抛光砖废渣的高温性质合理调整烧成工艺制度, 并选择适当的底釉和面釉。利用本研究成果, 制备出了符合国家标准的釉面砖产品, 使本厂抛光砖废渣及釉面砖废渣的利用率达到100%。
1、实验
1.1 配方及工艺
试验使用普通釉面砖原料加上抛光废渣和釉面砖废渣生产釉面砖, 各组成化学成分见表1。抛光废渣压滤后, 以每批1000吨为一个均化单位, 集中堆积后采用挖掘机进行粗均化, 取样化验后, 再加入使用。根据本厂釉面砖生产过程中各种废渣的产生量, 若要全部消化, 釉面砖废渣用量为10%, 试验所使用的配料比见表2。作为既生产抛光砖又生产釉面砖的企业, 本厂产生的各种废渣可以全部用于釉面砖生产, 实现零排放。
各种原料经球磨、制粉、成型和干燥等工序后, 在1090℃素烧, 然后再施釉和干燥, 在1130℃釉烧, 成规格为330 mm×600 mm的釉面砖产品。
1.2 性能表征
用x射线衍射法测定坯体相组成, 仪器为荷兰PANalytical X’Pert PRO, 电压40 k V, 电流40 m A。样品的显微结构采用德国卡尔蔡司公司的EVO 18型扫描电子显微镜观察。釉粉经压制成型, 制成Φ10 mm×4 mm试片, 在德国弗劳恩霍夫 (Fraunhofer) 研究所产TOMMI高温光学控制膨胀仪中观察面釉和底釉的烧结和熔融性能。
釉面砖产品的性能按照GB/T4100-2006标准附录L的要求进行检验, 放射性按GB6566-2001标准进行检验。样品在加热过程中的形貌变化用肉眼观察。
2、结果与分析
2.1 掺废渣釉面砖坯体相组成及显微结构
我们在前期研究中发现, 由于抛光砖废渣中含有磨料碳化硅, 高温下碳化硅氧化放出气体, 若这时坯体中出现较多高粘玻璃相, 则气体不能及时排除在坯体中膨胀发泡, 导致坯体膨胀, 而釉面砖由于烧成温度较低, 能够避免抛光废渣膨胀发泡问题的出现。
图1是掺入了40%陶瓷固体废渣釉面砖1130℃烧成的坯体断口的扫描电镜照片, 从图中可以看到深色的坯体中有一些白色的小点及较多不规则气孔, 说明在此温度下, 废渣烧结活性较差, 玻璃相较少, 碳化硅氧化产生的气体基本可排除, 没有发生被氧化发泡的现象。
图2是掺加了40%陶瓷固体废渣的釉面砖1130℃烧成坯体的XRD图谱, 计算机检索表明, 该坯体所包含的晶体主要为石英和钠钙长石。
2.2 釉的高温性能性质及釉烧制度
坯体中掺入抛光废渣后, 要求烧成时能及时排除产生的气体, 因此需要配制与之相适应的特殊面釉和底釉。我们利用用高温光学控制膨胀仪观察了面釉和底釉的烧结和熔融性能。图3是底釉在最高烧成温度1130℃左右时的视频截图, 图4是面釉在1030℃和1090℃左右的视频截图, 由图可见, 1030℃面釉尚未软化, 而在1090℃, 面釉已经达到成熟温度, 但由于高温粘度较大, 呈椭球型, 并且表面很光滑, 而底釉在1130℃仅仅产生整体收缩, 边角还很规则, 说明还远没有达到其成熟温度。底釉烧结程度较低不仅有利于坯体气体排出, 而且可能有利于提高釉面砖的热稳定性。
根据掺抛光废渣和釉面砖废渣的坯体特性及釉的高温性能, 调整釉面砖釉烧制度, 在1050℃到1090℃阶段适当延长烧成时间, 使得抛光废渣中的碳化硅在该温度段得到比较充分的氧化。并通过调整釉料配方, 调高底釉的成熟温度和面釉的高温粘度。底釉的成熟温度提高, 使得坯体中的气体不会受阻于底釉层;面釉具有较高的粘度, 在接近烧成最高温度时, 可以依靠面釉的粘度对所形成气泡进行控制, 使其不能到达釉的表面形成缺陷, 保证釉面质量。
图5是加入了40%陶瓷固体废渣釉面砖面釉和底釉结合处的扫描电子显微镜照片, 由图可见, 面釉层断口呈贝壳状, 几乎没有气孔, 从而在保证釉面砖的强度、美观和易洁性。由显微照片可以明显观察到底釉有较多孔洞, 呈多孔形态, 扫描电子显微镜观察结果与高温光学控制膨胀仪观察结果一致。
2.3 掺废渣釉面砖成品性能
通过延长氧化阶段烧成时间, 缩小素烧与釉烧的烧成温度差, 调高底釉熔融温度, 调高面釉高温粘度等措施, 即使在釉面砖中掺入较大量的陶瓷固体废渣, 釉面砖质量也可保持不变甚至略有提高。
表3为掺加废渣的规格为330 mm×600 mm釉面砖产品的质量检测结果与标准要求的对比, 掺加30%抛光废渣和10%釉面砖废渣制成的釉面砖性能符合国家标准要求。
表4为采用相近工艺制备的加废渣釉面砖产品和未加废渣釉面砖产品性能比较。与未掺废渣的釉面砖对比, 掺入了陶瓷固体废渣的产品性能不仅没有下降, 反而在强度、热稳定性等方面还略有明显提高。原因是加入废渣釉面砖底釉成熟温度高, 烧成后, 底釉层中存在一些孔洞, 可以缓解热震造成的应力, 所以其抗热震性好于普通釉面砖[5,6]。
3、结束语
通过适当延长碳化硅氧化段的烧成时间, 缩小素烧与釉烧的烧成温度差, 调高底釉熔融温度和面釉高温粘度, 制备了抛光废渣掺量30%的釉面砖, 其质量明显高于国家标准的要求, 强度超过了国家标准要求100%, 抗热震性能超过400%以上, 因此, 通过合理组织生产, 可以完全消耗本厂产生的抛光废渣和釉面砖废渣等固废, 实现固体废渣的零排放。
参考文献
[1]余国明, 李少平, 王贵生.陶瓷冷加工废渣在釉面砖生产中的循环应用[J].佛山陶瓷, 2010.
[2]税安泽, 夏海斌, 曾令可, 等.利用抛光砖废料制备多孔保温建筑材料[J].硅酸盐通报, 2008.
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[4]王庆立.探沂页岩在彩釉砖中的应用[J].中国陶瓷, 1996.
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